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太陽能硅片雷士超聲波清洗機

產(chǎn)品/服務：
品 牌： 雷士超聲
有效期至： 長期有效
最后更新： 2024-12-09 22:28
單價：
6800.00元/ 臺
最小起訂量：
1 臺
供貨總量：
1236 臺
立即詢價

(發(fā)貨期限：自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨)

公司基本資料信息






  • 詳細說明
  • 規(guī)格參數(shù)
 太陽能硅片雷士超聲波清洗機
技術(shù)參數(shù)
電源電壓：220V 
超聲波功率：12KW 
超聲波頻率40KHz
加熱功率：6kw/槽 
性能特點 
1、利用超聲波空化作用，并且設(shè)計各槽上下拋動，使污垢徹底脫落； 
2、根據(jù)清洗工藝設(shè)置超聲波電控箱，PLC全程控制，操作簡便； 
3、槽子底部設(shè)有接渣口，沉淀污垢及時排渣； 
4、適當加入弱堿，加快清洗的速度，提高清洗的效率
太陽能光伏專用設(shè)備 ，包括制絨酸洗設(shè)備、去磷硅玻璃（PSG）、擴散爐、刻蝕機、硅片清洗機、硅芯硅料清洗機等，
清洗范圍：
半導體硅片、太陽能電池硅片、晶體、電阻、電容、PCB板、IC芯片、接插件、連接件、轉(zhuǎn)接器、硅片、三*管、二*管、電子線路板、電腦主板、壓電陶瓷片、顯象管、電真空器件等電子器件的生產(chǎn)加工過程工序間的清洗。
清洗原理
借助于表面活性劑的潤濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在Si片表面的附著力削弱, 再施以加熱、超聲波等物理方法, 使沾污脫離 Si片表面, 而進人清洗液中被乳化 、分散開。
在清洗液中超聲清洗Si片表面其原理可用“空化” 現(xiàn)象來解釋: 超聲波振動在液體中傳播的音波壓強達到*個大氣壓時, 其功率密度為O.35 W/cm, 這時超聲波的音波壓強峰值就可達到真空或負壓, 但實際上無負壓存在, 因此在液體中產(chǎn)生*個很大的壓力, 將液體分子拉裂成空洞*空化核。此空洞非常接近真空, 它在超聲波壓強反向達到*大時破裂, 由于破裂而產(chǎn)生的強烈沖擊將Si片表面的污物撞擊下來，而這種由無數(shù)細小的空化氣泡破裂而產(chǎn)生的沖擊波現(xiàn)象稱為“空化”現(xiàn)象。在超聲清洗中, 表面活性劑也發(fā)揮著重要作用, 通過表面活性劑的乳化、分散作用, 可以顯著削弱沾污對Si片表面的吸附, 從而獲得好的清洗效果。

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